也被稱為光學光刻或EUV光刻，光刻技術采用一些與攝像同樣的基本原則，即圖形在被曝光后映射。它是一種通過曝光光致抗蝕劑層區域，將微型圖形轉印到襯底上的標準工藝，廣泛應用于半導體工業以制造計算機芯片。 

　　與絲網法工藝轉印不同顏色的墨水到T恤、海報和其他打印的物體上類似，傳統的 光刻技術依賴于光掩膜來保護襯底區域免受曝光。被掩蔽區域覆蓋的區域保持底層的完整，已被曝光的底層被沖走，最終創建最后的微型圖形。 此前，由于與光源方向平行布置的已曝光區域和頂層區域之間的界限，這一技術已被限制為二維設計。

　　這項新技術將用于增強三維聚合物制造工藝，這一工藝之前被認為不能用于商業用途。 

　　申教授稱，“雖然3D打印被認為是一種創新型制造技術，但它不能用于微觀產品的大規模生產。” “新的光刻技術將對學術界和工業界產生廣泛的影響，尤其是因為現有傳統光刻設備可用于更復雜微型圖形的開發。”來自工業和信息化部電子科學技術情報研究所的宋文文這樣認為。